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石墨烯及石墨烯漿料的制備方法
2016-04-25 10:25:39 來源:聶石墨烯的制備方法,石墨烯漿料的制備方法,石墨烯研磨分散機(jī),石墨烯高剪切研磨分散機(jī),石墨烯漿料研磨機(jī)
石墨烯的制備方法自石墨烯被發(fā)現(xiàn)以來,科研人員為能批量穩(wěn)定地制備石墨烯付出了巨大努力并取得了階段性成果。石墨烯制備方法主要有:
(1)晶體外延生長(zhǎng)法,該法是在極高的真空度下將單晶碳化硅襯底加熱至1200~1600℃,使襯底中的硅原子升華析出,過量的碳原子留在基底并重構(gòu)生成石墨烯,這是目前公認(rèn)的***有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化的方法之一;
(2)化學(xué)氣相沉積法(CVD),該法將甲烷等含碳化合物在基底上進(jìn)行高溫分解而重構(gòu)生成石墨烯,然后除去金屬基底得到石墨烯;
(3)化學(xué)氧化-還原法,目前以該法制備氧化石墨主要有3種途徑,即Brodie法、Staudenmaier法及Hummers法。前兩者會(huì)產(chǎn)生ClO2氣體,Hummers氧化還原法反應(yīng)時(shí)間短,產(chǎn)品純化步驟簡(jiǎn)單,因此目前的制備方法多基于Hummers氧化還原法。
Hummers氧化還原法制備過程概括為:
①向強(qiáng)酸和強(qiáng)氧化劑混合液加入石墨,反應(yīng)得到氧化石墨;
②借助外力剝離得到氧化石墨烯(GO);
③通過化學(xué)還原、熱還原等方法將氧化石墨烯還原得到還原的氧化石墨烯(rGO)。上述3種制備方法中,使用CVD法制得的大面積石墨烯片層可以直接覆蓋在金屬表面用作防腐、保護(hù)涂層,而化學(xué)氧化-還原法則在涂料領(lǐng)域中更為常用。這是由于在氧化的過程中,將活性含氧基團(tuán)引入到石墨烯上,為以后的功能化改性提供了活性反應(yīng)位點(diǎn),豐富了功能化改性的手段,從而有效提高改性GO與溶劑、聚合物的相容性。
石墨烯漿料的制備方法
(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制,而且處理量比較小,不適合規(guī)模生產(chǎn)
(2)砂磨機(jī):能夠均勻的細(xì)化石墨烯的粒徑,但是工作時(shí)間長(zhǎng),而且容易破壞石墨烯的原子機(jī)構(gòu),耗材更換成本高,
(3)采用研磨分散機(jī)“先把抱團(tuán)粒徑打開,還原物料的原始粒徑,再把物料進(jìn)步細(xì)化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料
石墨烯研磨分散機(jī)是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒完全被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
石墨烯漿料分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、石墨烯 水分散劑概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
石墨烯 分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
ikn石墨烯研磨分散機(jī)是由研磨機(jī) 和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù),通過超高
轉(zhuǎn)速(***高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
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