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納米氧化鉍高速分散機,氧化鉍納米分散機
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氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑,純度一般要求在99.15%以上,主要應(yīng)用對象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類用作電子陶瓷粉體材料、電解質(zhì)材料、光電材料、高溫超導(dǎo)材料、催化劑。氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑,純度一般要求在99.15%以上,主要應(yīng)用對象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類;以及釉藥橡膠配合劑、醫(yī)藥、紅色玻璃配合劑等方面。
納米氧化鉍高速分散機,氧化鉍納米分散機,德國納米分散機,IKN高速分散機
高剪切分散機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散均質(zhì),經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機的循環(huán)往復(fù),***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
影響分散結(jié)果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是***重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設(shè)備。
高剪切均質(zhì)分散機應(yīng)用于:
混懸液
化妝品
色漿
顏料洗滌劑
漿糊
鹽溶液
催化劑
涂漆 、
聚合物乳化液
農(nóng)藥(除草劑 殺蟲劑)
高剪切均質(zhì)分散機特別應(yīng)用于:
疫苗、
細胞破碎
膠體溶液、
金屬氧化物懸浮液、
墨水
印刷涂料
色素色漿 漿料蒙脫石混懸液
鋁鎂加混懸液
布洛偽麻混懸液
磺胺嘧啶混懸液
磺胺二甲嘧啶混懸液 等等
超高速均質(zhì)分散機設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
超高速均質(zhì)分散機電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達
超高速均質(zhì)分散機電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
超高速均質(zhì)分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速均質(zhì)分散機表面處理:拋光、耐磨處理
超高速均質(zhì)分散機進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
高剪切均質(zhì)分散機標準流量(H2O)
輸出轉(zhuǎn)速
標準線速度
馬達功率
進出口尺寸
型號
l/h
rpm
m/s
kW
ERS 2000/4
300-1,000
14000
40
2.2
DN25/DN15
ERS 2000/5
1,000-1.5000
10,500
40
7.5
DN40 /DN 32
ERS 2000/10
3,000
7,300
40
15
DN50 / DN50
ERS 2000/20
8,000
4,900
40
37
DN80 /DN 65
ERS 2000/30
20,000
2,850
40
75
DN150 /DN 125
ERS 2000/50
40,000
2,000
40
160
DN200 /DN 150
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
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