納米分散設(shè)備,高速納米分散設(shè)備,德國納米分散設(shè)備,IKN高速納米分散設(shè)備是包括分散機、過濾泵、納米砂磨機、*放料閥、第二放料閥、第三放料閥以及物料管路，所述的分散機包括乳化裝置、攪拌裝置以及釜體，所述的分散機通過物料管路以及*放料閥與過濾泵連接，所述的過濾泵通過物料管路以及第二放料閥與納米砂磨機連接，所述的納米砂磨機通過物料管路以及第三放料閥與分散機連接。上述納米材料分散設(shè)備，利用普通分散機的強大剪切力實現(xiàn)納米材料在樹脂中的初步分散至微米級，然后再通過普通納米砂磨機循環(huán)研磨物料，將物料進一步研磨至納米級別，效率高、效果好；并且中位粒徑降低至一百納米的級別，可充分發(fā)揮納米材料固有的特性，大幅提高了納米材料產(chǎn)品使用時的力學(xué)強度等各種性能

納米分散設(shè)備,高速納米分散設(shè)備,德國納米分散設(shè)備,IKN高速納米分散設(shè)備是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。


粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果
 
為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下，我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點，也應(yīng)該是廣大客戶在選型時應(yīng)該重視的幾個方面。
 
 
IKN研磨機與國內(nèi)研磨機比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)研磨機，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計構(gòu)造：
國內(nèi)研磨機，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機，立式分體結(jié)構(gòu)，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內(nèi)研磨機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN研磨機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)研磨機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	80000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。


納米分散設(shè)備,高速納米分散設(shè)備,德國納米分散設(shè)備,IKN高速納米分散設(shè)備