二維材料研磨分散機，二維材料剝離設備，超高速研磨分散機，線速度66M/S分散機是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果

二維材料 二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運動（平面運動）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運動（平面運動）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。
納米材料是指材料在某一維、二維或三維方向上的尺度達到納米尺度。納米材料可以分為零維材料、一維材料、二維材料、三維材料。
零維材料是指電子無法自由運動的材料，如量子點、納米顆粒與粉末。
一維材料是指電子僅在一個非納米尺度方向上自由運動（直線運動），如納米線性結材料、量子線，*具代表的是碳納米管（carbon nanotube）。
三維材料是指電子可以在三個非納米尺度上自由運動，如納米粉末高壓成型或控制金屬液體結晶而得到的納米晶粒結構（納米結構材料）。

石墨烯材料  氮化硼（BN）、二硫化鉬（MoS2）。*近在凝聚態(tài)物理領域有著廣泛的研究。
二維材料研磨分散機，二維材料剝離設備，超高速研磨分散機，線速度66M/S分散機

粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果
 
為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下，我們采用立式的結構通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點，也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。
 
 
IKN研磨機與國內(nèi)研磨機比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)研磨機，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內(nèi)研磨機，臥室直聯(lián)結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內(nèi)研磨機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN研磨機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)研磨機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 
IKN管線式粉碎機與國內(nèi)粉碎機比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)粉碎機，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切粉碎機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內(nèi)粉碎機，臥室直聯(lián)結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN粉碎機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內(nèi)粉碎機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN粉碎機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)粉碎機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機，可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 
納米膠體磨|高速納米膠體磨|高剪切納米膠體磨|納米材料膠體磨|納米改性膠體磨|不銹鋼納米膠體磨|納米膠體磨價格|德國納米膠體磨|進口納米膠體磨
IKN納米膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：

• 轉(zhuǎn)速和剪切速率：IKN納米膠體磨，可選擇德國機械密封，轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍

 

• 膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差
• 機械密封：IKN納米膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

 
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定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
IKN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)膠體磨，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切膠體磨，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內(nèi)膠體磨，臥室直聯(lián)結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切膠體磨，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內(nèi)膠體磨，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)膠體磨，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切膠體磨，可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎


二維材料研磨分散機，二維材料剝離設備，超高速研磨分散機，線速度66M/S分散機