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    鹽酸頭孢噻呋膠體磨,頭孢混懸液膠體磨

    產(chǎn)品型號: CMS2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    鹽酸頭孢噻呋膠體磨,頭孢混懸液膠體磨,口服混懸液膠體磨,高速膠體磨,醫(yī)藥高速膠體磨

    依肯膠體磨CM2000系列特別適合于超細懸浮液、膠體溶液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,CM在摩擦狀態(tài)下工作,因此也被稱作濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達到更好的研磨分散效果。CM2000整機采用*佳幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,*好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

    鹽酸頭孢噻呋膠體磨 

    設(shè)備選型上注意幾點:

    1.  設(shè)備能夠達到無菌級別。即設(shè)備可以在線滅菌,可以耐受高溫,滅菌后可以保持無菌狀態(tài)。
    2.  電機要求有變頻控制,可以有效延緩電機的壽命。
    3.  膠體磨的不銹鋼材質(zhì)一定要耐磨,防止研磨過程出現(xiàn)金屬碎屑。
    4. 關(guān)于生產(chǎn)效率配備、連接方式、電源、噪音、安全等問題生產(chǎn)單位應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場考慮。

    選定的膠體磨作為生產(chǎn)頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關(guān)鍵設(shè)備,由于價格較貴,需要在廠家現(xiàn)場試驗,考察研磨效果。為做好此項工作,制定方案如下:

    • · 周一高新區(qū)設(shè)備員根據(jù)三個廠家提供的資料,結(jié)合高新區(qū)的產(chǎn)能,優(yōu)選出2家設(shè)備,并確定設(shè)備的型號。同時確認*小試驗數(shù)量,以及試驗現(xiàn)場是否有檢驗研磨粒度的儀器。
    • · 周一高新區(qū)水針車間根據(jù)廠家提供的*小配料量,配制試驗兩家設(shè)備的物料。
    1.  由于硫酸頭孢喹肟的價格較貴,本次試驗采用鹽酸頭孢噻呋,暫不考慮喹肟(喹肟研磨時間較長)。
    2.  初步按照每家設(shè)備4升體積的試驗量,準(zhǔn)備8升數(shù)量的物料。具體物料數(shù)量由研發(fā)提供,高新區(qū)提供。
    3.  根據(jù)試驗數(shù)量,周一做出相應(yīng)比例的油膠溶液。準(zhǔn)備試驗器材。
    • 試驗方案

    試驗?zāi)康模簷z驗?zāi)z體磨的研磨效果以及效率

    試驗器材:試驗用膠體磨、顯微鏡、載玻片、涂針、留樣瓶、封口鉗、8號針頭、注射器,1ml移液管,溫度計。

    試驗步驟:

    1、現(xiàn)場確認設(shè)備的型號、性能、以及清洗方式。

    2、加入物料,設(shè)定3分鐘的研磨時間(假定4升物料研磨5分鐘合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分鐘),取樣檢測粒度,記錄粒度分布數(shù)量。用移液管測量流速,用8號針頭測量通針性。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的參數(shù)。

    3、如果3分鐘沒有達到效果,則繼續(xù)進行5分鐘試驗。以此類推,繼續(xù)做好數(shù)據(jù)檢測。

    4、在研磨性能試驗完成以后,利用現(xiàn)有物料對膠體磨進行連續(xù)開機試驗,初步定為30分鐘,試驗?zāi)z體磨的產(chǎn)熱降溫性能。測量機體軸承處溫度、測量研磨腔出來的料溫溫度,顯微鏡檢查料液中是否有金屬碎屑。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的數(shù)據(jù)。

     

    鹽酸頭孢噻呋膠體磨作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

    研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CM2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    鹽酸頭孢噻呋膠體磨  

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CM 2000/4

    700

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CM 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CM 2000/10

    8000

    4,200

    23

    15

    DN50/DN50

    CM 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CM 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CM2000/50

    80000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

    更多信息請撥打我司電話

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    立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,*小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

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