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    混懸口服液膠體磨,口服液膠體磨

    產(chǎn)品型號: CMS2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
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    混懸口服液高速膠體磨,德國混懸口服液膠體磨  14000轉(zhuǎn)混懸口服液膠體磨是透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    混懸口服液膠體磨 混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,有效期內(nèi)藥物含量符合要求;混懸微粒細(xì)微均勻,微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90,沉降后不結(jié)塊,輕搖后應(yīng)能迅速分散;混懸劑的粘度應(yīng)適宜,傾倒時不沾瓶壁;外用混懸劑應(yīng)易于涂布,不易流散;不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標(biāo)簽上應(yīng)注明“用前搖勻”。

     

     混懸劑中的微粒由于受重力作用,靜置后會自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律:

      按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比,與分散介質(zhì)的粘度成反比;鞈椅⒘3两邓俣扔,混懸劑的動力學(xué)穩(wěn)定性就愈小。

      為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩(wěn)定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當(dāng)方法將藥物粉碎得愈細(xì)愈好。這是*有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護(hù)膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低,有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒*終總是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,細(xì)小微粒沉降速度較慢,更細(xì)小的微粒由于布朗運(yùn)動,可長時間混懸在介質(zhì)中。

    混懸口服液膠體磨的眼膜效果



     混懸液的主要2個  1個衛(wèi)生 GMP   2   粉碎的效果   3 一些IQ  OQ PQ文件

     

    影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

     

    2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

    3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

    4  物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

    5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

     

    線速度的計(jì)算

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                                g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

    設(shè)備性能要求:

        1.研磨粒度要求:粒徑小于15um以下,目前用于生產(chǎn)混懸口服液,將來也適用于生產(chǎn)混懸注射液。

        2.生產(chǎn)效率:混懸液中都加有助懸劑,溶液為膠體溶液,有一定的粘度。在普通粘度的情況下,生產(chǎn)能力(循環(huán)總流量)可以達(dá)到1000-1500升/小時左右。

        3.設(shè)備的研磨室夾層有冷卻系統(tǒng),工作溫度不高于50度。

        4.為衛(wèi)生級高剪切膠體磨,符合GMP要求。

        5.設(shè)備的清洗方便,無殘留死角。

         請按上述要求,推薦合適型號的設(shè)備

     

    由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
    研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
    進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

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    混懸液膠體磨,口服液膠體磨

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