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石墨烯納米片高速分散機(jī)
詳細(xì)信息上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
石墨烯納米片是由單層碳原子平面結(jié)構(gòu)石墨烯堆垛而成的物質(zhì)。
石墨烯納米片 ,簡(jiǎn)稱GNSs(Graphene nanosheets)或GNFs ( Graphene Nano Flakes) ,也稱為碳納米片 CNFs ( Carbon nanoflakes) 或碳納米壁 CNWs ( Carbon nanowalls) ,厚度為納米尺度的兩維石墨納米材料,其極端情況是單層石墨烯。
1.石墨烯復(fù)合材料的制備及電化學(xué)性能研究:
較強(qiáng)的π-π堆積,在大量合成與加工石墨烯納米片的過(guò)程中,極易發(fā)生團(tuán)聚,因而很難得到大部分表面分布有單片層石墨烯的電極,使得石墨烯表面利用率大大降低。但是通過(guò)上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司的研磨分散機(jī)對(duì)石墨烯納米片進(jìn)行分散,可以減少團(tuán)聚的發(fā)生。
2.上海依肯CMD2000系列研磨分散機(jī)CMD2000系列的膠體磨(錐體磨)+分散頭的組合,可以先將石墨混合物(配入溶劑和分散劑)研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過(guò)分散頭,進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象,為石墨烯行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。
3.IKN/依肯研磨分散機(jī)的特點(diǎn)
①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。4.石墨烯納米片高速分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào)
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。
1)表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2)處理量取決于物料的粘度。
3)如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4)本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
石墨烯分散需要解決六大基本問(wèn)題
Ø 石墨烯分散的挑戰(zhàn)性首先源于對(duì)石墨烯深度分散的必然要求,將石墨烯分散到單片或初級(jí)粒子狀態(tài);
Ø 源于石墨烯對(duì)通過(guò)化學(xué)改性實(shí)現(xiàn)分散這一手段的低容忍性甚至抵觸性;化學(xué)改性,勢(shì)必干擾或一定程度上破壞π-π的完整性,從而降低或失去本征態(tài)石墨烯的優(yōu)異性能;
Ø 源于石墨烯本身既不親水又不親油的結(jié)構(gòu)特征;一般的分散劑分子又較難與石墨烯形成較強(qiáng)的物理吸附作用,所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也將受限;
Ø 源于石墨烯的π-π結(jié)構(gòu)和強(qiáng)的范德華力,使石墨烯極易團(tuán)聚,而且團(tuán)聚體難以再分開;
Ø 還源于石墨烯極高的長(zhǎng)徑比和比表面積;
Ø 石墨烯的分散還面臨著實(shí)際生產(chǎn)操作性方面的難題。例如,4%濃度的水型石墨烯漿料已是膏態(tài),不具有流動(dòng)性,這為生產(chǎn)過(guò)程中物料傳輸、分散和化學(xué)反應(yīng)造成了困難。
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