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    混懸液研磨設(shè)備,混懸液分散設(shè)備

    產(chǎn)品型號: CMD
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     品牌:IKN  型號:CMD  產(chǎn)品規(guī)格:CMD2000  
     主要用途:醫(yī)藥,食品  類型:無色促進劑  有效物質(zhì)含量:1%  
     質(zhì)量等級:優(yōu)  類型:無色促進劑  有效物質(zhì)含量:1%  
    混懸液研磨設(shè)備,混懸液分散設(shè)備,混懸液研磨分散機,德國研磨分散機,高剪切研磨分散機,進口研磨分散機,實驗室研磨分散機,研磨分散機廠家請電話聯(lián)系上海依肯機械設(shè)備

    以固體顆粒分散于分散媒中,顆粒或液滴與分散媒之間有相界面,稱為混懸液混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題;鞈乙褐兴幬镂⒘7稚⒍却螅⒘Ec分散介質(zhì)之間存在著物理界面,是混懸微粒具有較高的表面自由能,混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液,應(yīng)減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。實驗工作中主要應(yīng)用前兩種手段增加穩(wěn)定性。增稠劑可用糖漿、天然膠類、以及合成的可溶性纖維素類。加入表面活性劑可以降低界面自由能,使系統(tǒng)更加穩(wěn)定,而且表面活性劑由可以作為潤濕劑,可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān),若加入適量的絮凝劑(電解質(zhì))使顆粒ζ電位降至一定程度,微粒就發(fā)生絮凝,混懸劑相對穩(wěn)定,絮凝沉淀物體積大,振搖后易再分散。加入反絮凝劑電解質(zhì))可以增加已存在固體表面的電荷,使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。

    上海依肯*新研發(fā)的乳化機(研磨分散機)設(shè)備有著強大的剪切力以及特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu),其*高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM,是普通乳化設(shè)備轉(zhuǎn)速4-5倍以上,磨出的物料更細膩,使混懸液貯存更久
     
       混懸液研磨分散機*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
     
    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
     
      混懸液研磨分散機的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
     
     
    設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍

    研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
    研磨分散機 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接
    類型 l/h rpm m/s kW  
    CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
    CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
    CMD 2000/10 200 4,200 23 22 DN80/DN65
    CMD 2000/20 5000 2,850 23 37 DN80/DN65
    CMD 2000/30 8000 1,420 23 55 DN150/DN125
    CMD2000/50 15000 1,100 23 110 DN200/DN150
    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。
    5 本系列機型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進料;物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。
     
         IKN是國內(nèi)乳化均質(zhì)混合設(shè)備制造商,其諸多產(chǎn)品因其優(yōu)異的乳化均質(zhì)效果,能長時間的穩(wěn)定運行而受到廣大廠家的好評。IKN采用好的零部件,并傾盡全力將其優(yōu)化組合,制成各方面都卓然出眾的藝術(shù)級工業(yè)化產(chǎn)品。這需要多年的經(jīng)驗積累,以及技術(shù)沉淀,更重要的是將經(jīng)驗和技術(shù)轉(zhuǎn)化為創(chuàng)新的能力。
     
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