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    軟膠囊高剪切膠體磨,軟膠囊進口膠體磨

    產(chǎn)品型號: CMD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥168000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
    軟膠囊生產(chǎn)設(shè)備,軟膠囊高剪切膠體磨,軟膠囊進口膠體磨,軟膠囊高剪切乳化機,軟膠囊高剪切均質(zhì)機,軟膠囊內(nèi)容物膠體磨,軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機,膠囊膠體磨,改良型膠體磨,醫(yī)藥乳液膠體磨,醫(yī)藥混懸液膠體磨,進口膠體磨,進口高剪切膠體磨,進口膠囊膠體磨,多功能高剪切膠體磨,醫(yī)藥混懸液多功能膠體磨咨詢熱線:  (微信QQ同號)
     
    此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤,先研磨后分散,物料粒徑更細(xì),更穩(wěn)定!
    軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴(yán)密、用量精確、生物利用度高,藥物的穩(wěn)定性也得到提升,此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明,口服制劑的生物利用度,以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊,混懸液次之,再次為含顆粒的硬膠囊,***差為片劑。

    近年來,超微粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域,通過研究發(fā)現(xiàn),藥材經(jīng)過超微化粉碎后,粉末粒徑大小分布均勻,球性度和均質(zhì)度明顯改善,這些細(xì)粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中,質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展,對于膠囊的內(nèi)容物的處理,出現(xiàn)的大量的設(shè)備,如:膠體磨、均質(zhì)機、分散機等。這些設(shè)備通過對內(nèi)容物的剪切,從內(nèi)容物粒徑更加細(xì)化,粉末分散更加均勻。而上海依肯應(yīng)對這種情況,研發(fā)出了的設(shè)備,改良性膠體磨,該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點,將二者一體,形成的設(shè)備,我們也將它定義為“研磨分散機”。
     
    IKN改良型膠體磨,IKN研磨分散機,對于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢,對于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效,無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液,都可以將物料充分的細(xì)化,提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭,IKN改良型膠體磨,研磨分散機,有一級膠體磨頭和一級分散盤,對物料先研磨后分散機,再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速,乳液粒徑一般可細(xì)化至1-2微米,混懸液一般可細(xì)化至3-5微米,當(dāng)然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定。

    CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    1  線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
    ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
    ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
    ④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
    ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
            
    CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
        
              
    CMD2000系列軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機的特點:
    ①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
    ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
    ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
    ④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
    ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
     
     
    研磨分散機 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接
    類型 l/h rpm m/s kW  
    CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
    CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
    CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65
    CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65
    CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125
    CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150
    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
     
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