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納米循環(huán)式研磨機，納米研磨機
詳細信息| 詢價留言納米循環(huán)式研磨機，納米研磨機，納米研磨分散機，醫(yī)藥納米研磨機，XX藥物與親水性載體羥丙甲基纖維素水溶液的循環(huán)研磨，使藥物均勻分散到親水性載體溶液中，形成均勻的混懸研磨液，能夠有效的抑制藥物聚集以增加藥物粒子的穩(wěn)定性。并將研磨液達到一定的粒度要求范圍。
納米循環(huán)式研磨機，納米研磨機，納米研磨分散機，醫(yī)藥納米研磨機1、納米研磨機技術(shù)要求：藥液粒度通過研磨*終能100%小于10 μm，d90約為1.904μm，平均粒徑維持在1 μm左右。
2、藥液在循環(huán)研磨過程中能證物料溫度不超過30℃。
3、與藥物接觸的機身材料要符合GMP要求。
4、該項目暫定研磨液量為130kg/批，要求研磨時間在2-3小時內(nèi)達到目標粒度要求。
納米循環(huán)式研磨機，納米研磨機，納米研磨分散機，醫(yī)藥納米研磨機的顆粒大小分析
IKN研磨機與臥式研磨機：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
臥式研磨機，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構(gòu)造：
臥式研磨機，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機，立式分體結(jié)構(gòu)，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
臥式研磨機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN研磨機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
XX研磨機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
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研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機應用領(lǐng)域：
化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。
食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉 ，豆粕酶解等
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMSD 2000/4
300
14,000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10,500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7,200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4,900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2,850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1,100
41
160
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。
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