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    IKN石墨烯包裹的鈦合金納米復(fù)合材料研磨分散機CMD2000

    產(chǎn)品型號: CMD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥11189000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息

    石墨烯包裹的鈦合金復(fù)合材料分散機基本介紹

    石墨烯包裹的金屬復(fù)合材料分散機 ,石墨烯增強鈦合金合金復(fù)合材料分散機 , 氧化物包覆硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料的制備  石墨烯復(fù)合材料如何制備 硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法   是  身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

     

    將鹽和/或酯溶解在水和醇的混合溶液中,在劇烈攪拌條件下,在溶液中通入惰性氣體,除去溶液中溶解的氧氣和二氧化碳,3.2)在惰性氣體氣氛中,在劇烈攪拌條件下,將步驟2)制備得到的硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料加入溶液,制得混合均勻的懸濁液;在惰性氣體氣氛中,在劇烈攪拌條件下,緩緩逐滴滴加氨水,使氨水與可溶性鹽和/或酯發(fā)生反應(yīng)生成氫氧化物沉淀,均勻地包覆在硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料表面,3.3)將步驟3.2)制備得到的溶液在在惰性氣體氣氛中過濾;得到氫氧化物包覆的硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料;用乙醇洗滌數(shù)次;將洗滌后得到氫氧化物包覆的硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料在惰性氣氛煅燒冷卻到室溫,得到氧化物包覆的硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料。

     

    石墨烯包裹的鈦合金復(fù)合材料分散機技術(shù)參數(shù)

    石墨烯包裹的金屬復(fù)合材料分散機 ,石墨烯增強鈦合金合金復(fù)合材料分散機 , 氧化物包覆硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料的制備  石墨烯復(fù)合材料如何制備 硅鈦合金/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法

    散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

     

    CMSD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域:

    化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,炭黑,纖維素,石墨烯,碳納米管,富勒烯,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。         

     食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,食用菌絲 ,豆粕酶解等
    日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
    醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,口服混懸液,注射混懸液 ,膠囊,微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋,硫酸頭孢喹肟 等。
    建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
    新能源材料:石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

    設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。 

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求。 

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。 

    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。

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