-
IKN無菌膠原貼敷料濕法高速分散機、醫(yī)藥級敷料均質(zhì)分散機CMSD
詳細信息| 詢價留言品牌:IKN 類型:剪切分散機 物料類型:液-液 適用物料:藥品 應用領域:醫(yī)藥 型號:CMSD 速度類別:有級變速 調(diào)速范圍:1-21000 r/min 分散輪直徑:55 mm 升降行程:100 mm 電機功率:4 Kw 變速方式:變頻變速 罐容量:1000 L 外形尺寸:111 mm 整機重量:45 kg 無菌膠原貼敷料濕法高速分散機、醫(yī)藥級敷料均質(zhì)分散機、皮膚涂抹膏劑濕磨高剪切分散機、祛痕祛印敷料研磨分散機、高膠原蛋白敷料研磨分散機 隨著生活水平的提高,人們對美 的需求也越來越高。 雖然膠原貼敷料在 醫(yī)學美容皮膚科治療上的臨床應用剛剛開始 ,但因其療效確切 ,依從性好 ,不良反應少 ,安全性好等優(yōu)點 ,且其臨床應用也有明確 的理論依據(jù) ,所以得到了廣大臨床醫(yī)生和患者的認可。
性能特點
面部皮膚過敏是臨床上常見 的皮膚病 ,臨床表現(xiàn)以顏面出現(xiàn)紅斑、丘疹 、水皰 、皮膚干燥增厚為主并伴有瘙癢、灼熱或疼痛。 其發(fā)病是因各種原因產(chǎn)生反應而導致皮膚的炎癥 ,引起細胞受損 ,組織結構改變 ,而產(chǎn)生一系列的臨床表現(xiàn)。 膠原蛋 白貼敷料對 面部過敏性皮炎如脂溢性皮炎、日光性皮炎、接觸性皮炎 、濕疹等治療效果 明顯 ,體現(xiàn)在 自覺瘙癢癥狀減輕 ,皮損面積下降、紅斑及丘疹明顯消退。
目前,膠原的提取方法主要有堿法、酸法、鹽法及酶法。酸酶混合法是目前生產(chǎn)上常用的提取方法,膠原產(chǎn)品療效在臨床應用上進一步證明了其有效性及安全性,因此,臨床上對于此類產(chǎn)品的需求量迅速上升且對產(chǎn)品的安全性提出了更高的要求,目前企業(yè)能夠規(guī);a(chǎn)膠原相關產(chǎn)品,但產(chǎn)品多數(shù)只能以達到微生物限度級別,即使少數(shù)能夠達到無菌級別,但也只能以干品的形式提供給臨床應用,導致了液體膠原類產(chǎn)品在臨床上的應用受到限制。
無菌膠原貼敷料的制備方法為將動物的筋腱進行脫脂、切片、消毒、粉碎,再進行酸溶酶解、離心去沉淀得膠原原液;再調(diào)整膠原原液的濃度和粘度后,進行超濾純化和濃縮得高純度高濃度的膠原液;將其冷凍干燥、粉碎、輻照滅菌后進行配液裝入含有非織造布鋁箔袋中即可。本發(fā)明保持了膠原的活性,避免了膠原因輻照而變性或者發(fā)生交聯(lián)反應;本發(fā)明采用超濾純化代替?zhèn)鹘y(tǒng)的透析純化,縮短了純化的時間;采用自動化系統(tǒng)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的半自動操作,避免了人手污染,保證了產(chǎn)品的潔凈度、純度、生物活性。
依肯研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
CM2000系列膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 IKN公司另外一項獨特的創(chuàng)新,就是錐體磨CMSD2000系列,它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步。由于這項創(chuàng)新,CMSD2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨的效果更加理想。
無菌膠原貼敷料濕法高速研磨分散機技術參數(shù)
CMSD2000 系列研磨分散機設備選型表
型號
流量
L/H轉(zhuǎn)速
rpm線速度
m/s功率
kw入/出口連接
DNCMSD2000/4
300
14000
41
4
DN25/DN15
CMSD2000/5
1000
10500
41
11
DN40/DN32
CMSD2000/10
4000
7200
41
22
DN80/DN65
CMSD2000/20
10000
4900
41
45
DN80/DN65
CMSD2000/30
20000
2850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1100
41
160
DN200/DN150
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10% -
-
產(chǎn)品搜索
留 言
- 聯(lián)系人:段工
- 電 話:18018542795
- 手 機:18018542795
- 傳 真:021-51564113
- 郵 箱:my@iknsh.com
- 郵 編:201612
- 地 址:上海市松江區(qū)九新公路865號B幢101
- 網(wǎng) 址:
https://tomyin118.cn.goepe.com/
http://m.tktuan.com
電子樣本
文檔資料