-
德國IKN石墨烯納米硅復(fù)合材料高速研磨分散機CMSD2000
詳細信息| 詢價留言石墨烯納米硅復(fù)合材料高速研磨分散機,石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機,石墨烯復(fù)合材料研磨分散機,納米硅研磨分散機,石墨烯復(fù)合漿料研磨分散機,德國進口高剪切研磨分散機,高轉(zhuǎn)速研磨分散機,膠體磨升級款研磨機 段工
石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的獨特光學(xué)特性,用于紅外光探測有著突出的優(yōu)勢。但也存在著明顯的劣勢:本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機制,導(dǎo)致石墨烯探測器的光響應(yīng)率較低;石墨烯自身的光生載流子壽命短,僅皮秒左右,導(dǎo)致光生載流子難以有效收集,也嚴重影響探測器的光響應(yīng)率,石墨烯探測器的低響應(yīng)率無法滿足實際應(yīng)用的需要。目前,通過對石墨烯進行量子點修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法,可以不同程度地提高石墨烯探測器的光響應(yīng)率,以達到或接近實際應(yīng)用的需要。
由于鋰離子電池具有高容量、無記憶效應(yīng)、快速可逆充放電、高庫倫效率等優(yōu)點,其已在便攜式電子產(chǎn)品如手機、筆記本電腦、數(shù)碼相機等中得到廣泛應(yīng)用。然而再近二十年來,人們再大容量鋰離子二次電池的研究商進展緩慢。為滿足對高容量鋰離子二次電池的需求,開發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究價值。
硅石一種理想的鋰離子電池負極材料,其具有很高的理論儲鋰容量以及較低的儲理點位。而在充放電過程中,硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化,進入從集流體上剝落,從而導(dǎo)致容量迅速衰減。而且,硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用
石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤?筛鶕(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
-
-
產(chǎn)品搜索
-
產(chǎn)品分類
留 言
- 聯(lián)系人:段工
- 電 話:18018542795
- 手 機:18018542795
- 傳 真:021-51564113
- 郵 箱:my@iknsh.com
- 郵 編:201612
- 地 址:上海市松江區(qū)九新公路865號B幢101
- 網(wǎng) 址:
https://tomyin118.cn.goepe.com/
http://m.tktuan.com
電子樣本
文檔資料