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    德國(guó)IKN研磨用鏡面金漿高速大小型分散機(jī)ERS2000

    產(chǎn)品型號(hào): ERS2000
    品  牌: 德國(guó)IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-23
    詳細(xì)信息

    研磨用鏡面金漿高速大小型分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

    鏡面金漿的制備方法,包括步驟1、在一定厚度的PET薄膜上涂布一層干膜厚度不低于1um的離型涂料;步驟2、通過(guò)PVD法或者離子濺射法在薄膜涂層上鍍上一層純度≥99%的銅,形成鍍銅膜,膜厚在之間;步驟3、將鍍銅膜浸入一定質(zhì)量的溶劑中,離型涂層被溶解后,鍍銅層則從薄膜上脫落下來(lái),分散在溶劑中;步驟4、將銅膜懸浮液進(jìn)行濃縮,得到固含量不低于50%的銅膏。本發(fā)明直接制得金色金屬顏料層,可以*大限度的兼顧色彩和鋁銀漿的光亮度(鏡面效果),使客戶(hù)使用方便,省去調(diào)色環(huán)節(jié),也可以降低部分成本,用該工藝制備的鏡面金漿具有明艷的金色效果。

     

    高速研磨分散機(jī),研磨分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備,是一項(xiàng)新的技術(shù)革新。研磨分散機(jī)是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散,避免了物料的二次團(tuán)聚。


    1、超強(qiáng)的剪切力,CMD2000系列研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,線速度為44m/s,是普通設(shè)備的4-5倍。


    2、高精密度的定轉(zhuǎn)子,超細(xì)研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子分為兩級(jí),一級(jí)為膠體磨磨頭,采用三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu),磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學(xué)的設(shè)計(jì)。第二級(jí)是分散頭,IKN分散頭有六種不同的規(guī)格,從粗到細(xì),越來(lái)越密,分散效果佳。

    3、機(jī)械密封,超細(xì)的效果取決于高的轉(zhuǎn)速,而轉(zhuǎn)速越高機(jī)械密封的發(fā)熱量就會(huì)越大,設(shè)備的機(jī)械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速,國(guó)內(nèi)大多數(shù)廠家的機(jī)械密封是無(wú)法做到的,而IKN研磨分散機(jī)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng),可以承受超高的轉(zhuǎn)速,穩(wěn)定性高。

    高速研磨分散機(jī)CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)

     

    研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì):

    更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

    新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力

    更可靠 采用整體式機(jī)械密封,*大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.

    新技術(shù) 采用國(guó)際先進(jìn)的受控切割技術(shù),將纖維類(lèi)物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿(mǎn)足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

     

    CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
     

    型號(hào)

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%

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