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    德國IKN多家鋁粉銀漿在用的納米研磨分散機(jī)CMSD2000

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-23
    詳細(xì)信息

    多家鋁粉銀漿在用的納米研磨分散機(jī)表面積較大,易發(fā)生團(tuán)聚很難分散,如何將銀粉制成銀漿?銀漿的制備,炭黑的制備,銀粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散機(jī)可幫您解決此類難題。 

     

    銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機(jī)械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對(duì)其組成物質(zhì)要求是十分嚴(yán)格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少,以及形狀、大小對(duì)銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設(shè)備對(duì)銀粉的分散是至關(guān)重要的,當(dāng)然分散劑的應(yīng)用也是必不可少的。

     

    上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤?筛鶕(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

    CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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    CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

    研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

    1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

     

    2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

    3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計(jì)算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

     所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

     

    CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
     

    型號(hào)

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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