碳納米鋰電漿料超高速分散機設(shè)備是一種新型的碳素材料，由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層至數(shù)十層的同軸圓管，層與層之間保持固定的距離，約0.34nm，直徑一般為2-20納米。

碳納米管以其優(yōu)異的性能，在塑料改性，微型電路芯片，靜電屏蔽，鋰電池電極等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。

碳納米管導(dǎo)電漿料優(yōu)缺點

(1) 碳納米管具有良好的電子導(dǎo)電性,纖維狀結(jié)構(gòu)能夠在電極活性材料中形成連續(xù)的導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)；

(2) 添加碳納米管后極片有較高的韌性, 能改善充放電過程中材料體積變化而引起的剝落, 提高循環(huán)壽命；

(3) 碳納米管可大幅度提高電解液在電極材料中的滲透能力；

(4) 碳納米管的主要缺點在于不易分散，與液體借出后容易團聚，粉末還滿天飛揚。

碳納米管分散難點

碳納米管導(dǎo)電漿料分散機，碳納米管分散，其實也就是所謂的納米級物料的分散，在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)姆稚⒃O(shè)備來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散的關(guān)鍵。

想要解決這些難點并不困難，只要充分的將碳納米管粉料與介質(zhì)（水、NMP、PVDF）等充分分散均勻即可。IKN研磨分散均質(zhì)機是針對易團聚且分散效果不好的物料研發(fā)的，其設(shè)計上是采用膠體磨與分散機結(jié)合設(shè)計而成，也是膠體磨的升級版本，上面一層采用錐體磨設(shè)計，使得物料能夠在定轉(zhuǎn)子間距小的間隙（間隙可調(diào)）間進行研磨，研磨后的物料瞬間進入第二層分散均質(zhì)層進行剪切分散均質(zhì)。除此之外還具有以下特點：

1、設(shè)備運轉(zhuǎn)速度高達14000轉(zhuǎn)，是目前普通設(shè)備的4-5倍，高效細化分散研磨物料

2、定轉(zhuǎn)子之間的間隙是可調(diào)的，研磨縫隙調(diào)節(jié)可以改變適用于特定工藝

3、膠體磨頭設(shè)有三道磨碎區(qū)，一層為粗磨碎區(qū)，二層細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

4、機身腔體采用三層夾套設(shè)計可以冷卻也可以加熱

5、采用德國雙端面機械密封，在保證有冷卻水的情況下，可以24小時連續(xù)不間斷工作

6、從實驗室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗，無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù)，降低了設(shè)備投資的風(fēng)險

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的