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    CC氣墊生產(chǎn)設(shè)備 CC霜膠體磨

    產(chǎn)品型號(hào): CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺(tái)
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     型號(hào):CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速萬能研磨機(jī)  
     適用物料:化工 食品 藥品 醫(yī)藥 化妝品 乳  應(yīng)用領(lǐng)域:化工 食品 藥品 醫(yī)藥 化妝品 乳  加工批量:0-10000  
     驅(qū)動(dòng)功率:2.2 kw 重量:55 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電機(jī)  
     作用對(duì)象:銑刀  重量:55 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電機(jī)  

    粉底研磨分散機(jī),粉底分散機(jī),粉底膠體磨是,BB霜膠體磨,BB霜研磨分散機(jī),BB霜乳液生產(chǎn)設(shè)備,BB霜研磨設(shè)備,CC霜乳液生產(chǎn)設(shè)備,CC霜膠體磨,CC霜研磨分散機(jī),CC霜生產(chǎn)設(shè)備,CC氣墊生產(chǎn)設(shè)備,CC氣墊乳液膠體磨 進(jìn)口CC氣墊生產(chǎn)設(shè)備
    粉底研磨分散機(jī),粉底分散機(jī),粉底膠體磨是過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

     本公司有成熟的技術(shù)  跟國(guó)內(nèi)一線品牌的化妝品公司都有合作  得到行業(yè)*人士的認(rèn)可,詳細(xì)生產(chǎn)工藝 價(jià)格及選型請(qǐng)咨詢公司銷售工程師  聶倩文        QQ  ---

     

    粉底視頻

      粉底的研磨分散   粉體和酒精1:1 亞

     

       粉底的研磨分散  粉體:水1:2

     

    粉底是粉底是妝容的基礎(chǔ),粉狀質(zhì)地的粉底是***常見的,涂在臉上顯得輕柔自然,是日常妝的選擇。一般有粉底液、粉餅裝與散粉裝三種。進(jìn)行化妝時(shí),人們總不忘給自己打一層粉底,因此,在某種程度上說,粉底是女人妝容的基礎(chǔ),如何打好這層基礎(chǔ),那就得對(duì)照于你的膚色了。任何顏色的粉底在選用的時(shí)候都不能脫離本身膚,而試用也是在臉部皮膚上。

     

    粉底

    粉底的類型很多,粉底液、粉餅裝與散粉裝三種,這些粉底均用于調(diào)整膚色,改善面部質(zhì)感,遮蓋瑕疵,體現(xiàn)質(zhì)感,粉底的數(shù)值越大,顏色越深,使用時(shí)與膚色的色差不要過大,應(yīng)選擇與膚色接近的粉底。
    粉底液、粉餅裝與散粉裝成分并不盡相同,粉餅裝主要成份是顏料、油份、水份和色素,大多數(shù)是化學(xué)成份;而粉底液則會(huì)添加一些護(hù)膚成份,好的粉底更會(huì)添加植物成份,兼有較好的護(hù)膚功效。
    滑石粉:滑石粉可使其它粉底平滑地鋪展到皮膚上,并使皮膚滑爽。
    高嶺土和二氧化鈦:使粉底具有較強(qiáng)遮蓋力,并且可以消除滑石粉的閃光。
    硬脂酸鋅和肉豆慈酸鋅:具有較強(qiáng)的附著力。
    碳酸鈣和碳酸鎂:可吸收皮膚表面的汗液和油脂,也有消除滑石粉閃光的作用。
    顏料:一般是無機(jī)顏料和有機(jī)顏料混用。常用的無機(jī)顏料氧化鐵與紅色或橘黃色的有機(jī)顏料混合而成為粉底的顏料。
    粘合劑:使上述的各種粉底溶合成型。主要有動(dòng)植物和液體石蠟等礦物油或合成的脂油構(gòu)成。
    其他成分:防腐劑、抗氧化劑和香料等。

    植物成份:如海藻萃取精華、山藥萃取物、維生素類、彈性蛋白、珍珠粉等,具有修護(hù)柔軟肌膚、保濕美白、增加肌膚彈力及光澤等功效。

     

    粉底研磨分散機(jī)是 

    機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    1  線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ②  定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。

    ③  定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④  在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    ⑤  高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    CC氣墊高剪切膠體磨運(yùn)行原理: 
    CC氣墊高剪切膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎,精磨區(qū)分三級(jí),越向外延伸一級(jí)磨片精度越高,齒距越小,線速度越長(zhǎng),物料越磨越細(xì),同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的***小細(xì)度可達(dá)0.5um。
     
     CMD2000系列BB霜膠體磨是專門CC氣墊膠體磨特別是那些需要很好乳化和分散效果的生產(chǎn)。CMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     BB霜膠體磨
    ☆ 高效、節(jié)能
    傳統(tǒng)設(shè)備需8
    小時(shí)的分散加工過程,CM
    設(shè)備1
    小時(shí)左右完成,超細(xì)分散效果顯著,能耗*降低;
    ☆ 高速、高品質(zhì)

    傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;CM設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。
    依肯上海公司于德國(guó)公司長(zhǎng)期保持良好合作  致力于研發(fā)生產(chǎn)高性能乳化機(jī) 分散機(jī)  均質(zhì)機(jī) 高剪切分散乳化機(jī) 膠體磨  研磨分散機(jī)   現(xiàn)應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋全國(guó)的各種行業(yè) 我們有非常多的合作案例   如有需要詳細(xì)咨詢請(qǐng)致電   聶倩文

     

    粉底研磨分散機(jī)   雅思蘭黛 粉底研磨分散機(jī)   

     

    型號(hào) 

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    18

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。

     

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