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    CC氣墊漿料生產(chǎn)設(shè)備

    產(chǎn)品型號: CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     型號:CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速萬能研磨機  
     適用物料:化工 食品 藥品 醫(yī)藥 化妝品 乳  應用領(lǐng)域:化工 食品 藥品 醫(yī)藥 化妝品 乳  加工批量:0-10000  
     驅(qū)動功率:2.2 kw 重量:55 kg 驅(qū)動方式:電機  
     作用對象:銑刀  重量:55 kg 驅(qū)動方式:電機  

    粉底研磨分散機,粉底分散機,粉底膠體磨是,BB霜膠體磨,BB霜研磨分散機,BB霜乳液生產(chǎn)設(shè)備,BB霜研磨設(shè)備,CC霜乳液生產(chǎn)設(shè)備,CC霜膠體磨,CC霜研磨分散機,CC霜生產(chǎn)設(shè)備,CC氣墊生產(chǎn)設(shè)備,CC氣墊乳液膠體磨 進口CC氣墊生產(chǎn)設(shè)備
    粉底研磨分散機,粉底分散機,粉底膠體磨是過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

     本公司有成熟的技術(shù)  跟國內(nèi)一線品牌的化妝品公司都有合作  得到行業(yè)*人士的認可,詳細生產(chǎn)工藝 價格及選型請咨詢公司銷售工程師  聶倩文        QQ  ---

     

    粉底視頻

      粉底的研磨分散   粉體和酒精1:1 亞

     

       粉底的研磨分散  粉體:水1:2

     

    粉底是粉底是妝容的基礎(chǔ),粉狀質(zhì)地的粉底是***常見的,涂在臉上顯得輕柔自然,是日常妝的選擇。一般有粉底液、粉餅裝與散粉裝三種。進行化妝時,人們總不忘給自己打一層粉底,因此,在某種程度上說,粉底是女人妝容的基礎(chǔ),如何打好這層基礎(chǔ),那就得對照于你的膚色了。任何顏色的粉底在選用的時候都不能脫離本身膚,而試用也是在臉部皮膚上。

     

    粉底

    粉底的類型很多,粉底液、粉餅裝與散粉裝三種,這些粉底均用于調(diào)整膚色,改善面部質(zhì)感,遮蓋瑕疵,體現(xiàn)質(zhì)感,粉底的數(shù)值越大,顏色越深,使用時與膚色的色差不要過大,應選擇與膚色接近的粉底。
    粉底液、粉餅裝與散粉裝成分并不盡相同,粉餅裝主要成份是顏料、油份、水份和色素,大多數(shù)是化學成份;而粉底液則會添加一些護膚成份,好的粉底更會添加植物成份,兼有較好的護膚功效。
    滑石粉:滑石粉可使其它粉底平滑地鋪展到皮膚上,并使皮膚滑爽。
    高嶺土和二氧化鈦:使粉底具有較強遮蓋力,并且可以消除滑石粉的閃光。
    硬脂酸鋅和肉豆慈酸鋅:具有較強的附著力。
    碳酸鈣和碳酸鎂:可吸收皮膚表面的汗液和油脂,也有消除滑石粉閃光的作用。
    顏料:一般是無機顏料和有機顏料混用。常用的無機顏料氧化鐵與紅色或橘黃色的有機顏料混合而成為粉底的顏料。
    粘合劑:使上述的各種粉底溶合成型。主要有動植物和液體石蠟等礦物油或合成的脂油構(gòu)成。
    其他成分:防腐劑、抗氧化劑和香料等。

    植物成份:如海藻萃取精華、山藥萃取物、維生素類、彈性蛋白、珍珠粉等,具有修護柔軟肌膚、保濕美白、增加肌膚彈力及光澤等功效。

     

    粉底研磨分散機是 

    機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將多級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G4M,6F8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    1  線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ②  定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。

    ③  定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④  在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    ⑤  高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    CC氣墊高剪切膠體磨運行原理: 
    CC氣墊高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎,精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的***小細度可達0.5um。
     
     CMD2000系列BB霜膠體磨是專門CC氣墊膠體磨特別是那些需要很好乳化和分散效果的生產(chǎn)。CMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     BB霜膠體磨
    ☆ 高效、節(jié)能
    傳統(tǒng)設(shè)備需8
    小時的分散加工過程,CM
    設(shè)備1
    小時左右完成,超細分散效果顯著,能耗*降低;
    ☆ 高速、高品質(zhì)

    傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細分散能力極為有限;CM設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細分散漿料中的粉體。
    依肯上海公司于德國公司長期保持良好合作  致力于研發(fā)生產(chǎn)高性能乳化機 分散機  均質(zhì)機 高剪切分散乳化機 膠體磨  研磨分散機   現(xiàn)應用領(lǐng)域覆蓋全國的各種行業(yè) 我們有非常多的合作案例   如有需要詳細咨詢請致電   聶倩文

     

    粉底研磨分散機   雅思蘭黛 粉底研磨分散機   

     

    型號 

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    18

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。

    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。

     

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