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芳綸III漿料研磨分散機(jī)
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芳綸Ⅲ是對位芳綸的一種。因其是由對苯二胺、對苯二甲酰氯及含有雜環(huán)結(jié)構(gòu)的二胺三種單體共縮聚得到的,故稱芳綸Ⅲ,因其含有雜環(huán)結(jié)構(gòu),也稱雜環(huán)芳綸。芳綸Ⅲ和全對位芳綸(如Kevlar、Twaron等)在結(jié)構(gòu)、制備工藝及性能方面都存在*不同,芳綸Ⅲ因其獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)和工藝技術(shù)而具有低密度、超高強(qiáng)度、超高模量、耐高溫、抗沖擊性好、耐磨性好、透波性好等優(yōu)良性能,是綜合性能***好的有機(jī)纖維之一,在飛機(jī)部件(螺旋槳、輪胎、機(jī)身、主翼、尾翼等部位)、星載/機(jī)載/艦載雷達(dá)罩、衛(wèi)星部件、防彈材料(高級防彈衣、防彈頭盔、防彈護(hù)甲)、儀器防艙、電力電信、輸送材料、體育用品等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
目前,具備雜環(huán)芳綸批產(chǎn)能力的只有俄羅斯和中國。雜環(huán)芳綸因原料成本高、生產(chǎn)效率低、應(yīng)用開發(fā)受限等問題導(dǎo)致產(chǎn)品價(jià)格居高不下,只在軍工和少數(shù)民用高端領(lǐng)域應(yīng)用。未來隨著技術(shù)進(jìn)步和需求增加,雜環(huán)芳綸價(jià)格會逐漸降低。
芳綸Ⅲ作為一種綜合性能***好的輕質(zhì)高強(qiáng)材料之一, 廣泛應(yīng)用于國防軍工和現(xiàn)代工業(yè)等領(lǐng)域,其應(yīng)用形式主要有纏繞、UD、織物等。例如,芳綸Ⅲ UD預(yù)浸料可以用于飛機(jī)尾翼、腹鰭、機(jī)艙、安全防護(hù)、復(fù)合裝甲等制件的制備;織物可用于機(jī)載、艦載雷達(dá)罩、防彈頭盔等;纏繞可用于火箭發(fā)動(dòng)機(jī)、壓力容器、隔爆裝置、鈾濃縮離心機(jī)等。主要***終應(yīng)用領(lǐng)域如下:
1、航空航天。航空航天領(lǐng)域?qū)Ψ季]Ⅲ纖維的需求強(qiáng)勁,主要用于發(fā)動(dòng)機(jī)殼體、飛機(jī)構(gòu)件、雷達(dá)罩、儀器房艙等方面。
2、防彈裝甲。芳綸Ⅲ在防彈裝甲領(lǐng)域主要用于反恐裝備、坦克和裝甲車裝甲、武裝直升機(jī)和戰(zhàn)斗機(jī)護(hù)甲、艦船護(hù)甲、車船載儀器房艙、VIP防彈衣等方面。
3、橡膠增強(qiáng)。飛機(jī)輪胎增強(qiáng)方面,芳綸Ⅲ具有優(yōu)異的耐高低溫性能、耐磨性等,同時(shí)具有和橡膠一致的彈性伸長,因此是高檔輪胎理想的增強(qiáng)材料;遠(yuǎn)距離輸送用膠管增強(qiáng)也是芳綸Ⅲ的優(yōu)勢領(lǐng)域之一。
4、電子信息。芳綸Ⅲ纖維具有高強(qiáng)高模特性,可以用于光纖/光纜增強(qiáng),尤其適用于遠(yuǎn)距離、大張力光纖/光纜。
5、核工業(yè)及其他。芳綸Ⅲ可以用于高速離心機(jī)殼體、醫(yī)療用核磁共振核心部件等。
◆ 研磨分散機(jī): 高剪切分散機(jī)的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來強(qiáng)勁的動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細(xì)地分散,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機(jī)、球磨機(jī)、砂磨機(jī)相比,研磨分散機(jī)具有效率高、能耗低等顯著優(yōu)點(diǎn),是分散工藝的首選。納米材料研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機(jī)
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
1000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
3000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
8000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
20000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
60000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
納米材料研磨分散機(jī),德國納米材料研磨分散機(jī)
設(shè)備特點(diǎn)
⑴CMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比:
高效、節(jié)能
傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過程,CMD設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散效果顯著,能耗*降低;
高速、高品質(zhì)
傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。
⑵CMD設(shè)備與同類設(shè)備相比:
多層多向剪切分散
同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象;
CMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為徹底。
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